핵심Plant기술

1. 케미칼 중앙공급 시스템

Central Chemical Supply System 

반도체와 FPD Process에 사용되는 고순도의 산,알카리, 용제를 효율적이면서 안전하게 플랜트 내부로 중앙 공급하는 시스템

2. 오토메틱 클린 퀵 커플링 시스템

Automatic Clean Quick Coupler System

근본적으로 외부오염을 차단하며 자동적으로 고순도 케미칼을 공급 또는 배출하는 시스템

3. 고순도 케미칼 공급 시스템

High Purity Chemical Dilution or Mixing System

고순도 산,알카리,용제 등을 FPD나 반도체 공정 장비로 공급하는 시스템

4. 케미칼 정제 시스템

The Raw Chemical Purifier System such as Evaporator and Filtering

증류와 필터 공정을 통한 Raw Chemical 정제 시스템

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5. 액화가스 케미칼의 기화 및 정제 처리 시스템

Purification of Liquefied gas material with Vaporization & Filtering System

액화가스를 탱크에 저장한 후, 기화 장치와 여과 장치를 거친 후, 스파저(Sparger)와 열교환기를 통해 다시 액화 가스로 환원하여 고순도로 정제 처리하는 시스템

6. 다단 증류탑을 이용한 정제기술

Multi -stage distilation Tower

다단증류 타워를 이용한 분별증류 방식으로  반도체 및 FPD Process에 사용되는 초순수 케미칼을 만드는 정제시스템

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7. 토탈  오퍼레이션 제어 시스템

Total Operation  Control System

센서를 통해 온도,압력,유량,무게 등의 Data를 수집하고  Valve를 제어하는 시스템.
주로 PLC또는 DCS System을 사용하여 자동으로 공정을 제어하고 관리함.