반도체 공정용 고순도 세정제 제조Plant 

Plant for Purifired High Quality Solvent

반도체 공정 중 세정 공정에서 사용되는  ppb이하의 불순물 관리가 요구되는 고순도세정제 (Solvent) 를  생산하는 Plant 제조 능력을 보유하고 있으며,국내 유수업체에 해당 케미칼 플랜트의 설계 및 시공을 지속적으로 이어가고 있습니다. 

반도체 공정용 Solvent : IPA (Iso propyle alchol) 등..

반도체 식각 공정용  습식 식각액 (Echant) 제조 Plant

Plant for Echant chemicals in Wet Etching Process

그간 수입에만 의존해오던 반도체 식각 공정의 습식 식각제인 불산 (HF)와 BOE (Buffered Oxide etch)를 국내 업체를 대상으로 9N급의 고순도의 품질로 제조할 수 있는 Plant의 설계 및 시공에 성공하여 국내와 미국에  2차 Plant건설을 진행 중에 있습니다.